3.1电阻抗监视器
正常健康的珐琅质是不良导体。在釉质脱矿过程中,晶体之间的孔隙率增加。口腔环境中的各种离子不断渗透到微孔中,形成导电电流通路。釉质的阻抗值显著降低,与脱矿深度成正比,而电导率增加。电阻抗仪通过发出固定频率的单一交流电流来测量从牙齿表面到深层的电阻抗值,电阻抗接近零的位置是脱矿前沿的深度。电解加工的检测结果与许多因素有关,如孔径、表面接触面积、釉质含水量、釉质层厚度、温度等。这会在不同程度上影响结果。传统体外检测方法的检测结果与TMR的相关系数为0.47 ~ 0.82。近年来,该方法已成为一种操作简单、易于掌握的更加灵敏的无损脱矿检测技术。
3.2激光荧光龋齿检测
激光荧光法是一种检测早期釉质龋的非破坏性诊断方法,通过用蓝绿色激光照射牙齿表面,并通过高渗透性过滤屏障观察诱导荧光来测量荧光强度。在检测过程中,照射到去矿化区域的荧光可以是黑色的,而正常的珐琅质是黄色的。局部矿物质减少越多,荧光亮度越低,因此可以进行荧光定量检测,以分析脱矿程度。德国KAVO公司开发生产的DIAGNODent测试仪可常规用于早期窝沟龋和光滑面龋的脱矿检测。其有效性和重复性优于传统的检测方法。卡瓦迪亚和拉乌瓦尔多使用诊断试剂、目视检查、咬合翼和其他方法来检测乳牙的龋齿。与点蚀后的临床结果相比,低频法检测釉质龋的准确率更高,组内相关系数为0.97。Samuel等人用丙烯树脂将隔离的牙釉质块埋在正畸患者支架中,让患者佩戴。比较羟基磷灰石纳米粒子与臭氧水溶液(或不与臭氧水溶液)复合后对牙釉质块的再矿化效果,结果表明,用臭氧水溶液再矿化后,其诊断读数最低,再矿化效果最好。
Perrini等人对24名正畸患者进行了一项裂口自控实验。采用DIAGNODentPen2190检测仪,在不同治疗时间点(3、6、9、12个月)、不同牙弓段(前、中、后牙段)、不同牙面位置(牙龈、牙合面、托槽近中、远中牙面)和涂层使用频率(每3、6个月)进行了Duraphat氟化物涂膜抗脱矿效果的临床试验。结果发现,氟涂料能有效预防釉质脱矿,前牙区的预防效果优于后牙区,使用频率对预防效果无显著影响。
3.3定量光诱导荧光(QLF)
定量光导荧光技术是一种源于激光荧光技术的无辐射、无创的釉质脱矿定量方法。QLF使用蓝色光源照射牙齿表面。正常牙齿组织发出高强度的自体荧光,而脱矿组织发出弱强度的荧光。将荧光强度与正常组织进行比较,并计算龋齿深度。QLF具有很高的灵敏度,当釉质脱矿发生在5 ~ 10 m时可以检测到,其精度与TMR相当。近年来,一些学者通过QLF对釉质脱矿荧光损失(Y)进行了体外测试,并与PLM观察到的脱矿深度(X)进行了线性回归分析。结果表明,荧光损失与脱矿深度呈线性关系,回归方程Y=0.320.17,相关系数达到0.97。当QLF用于检测体内釉质脱矿时,口腔的潮湿环境和被检测牙齿表面的角度和弧度会影响光的折射。搪瓷晶体的折射率在干燥时明显高于潮湿时,并且对光有很强的散射作用。
正畸治疗经常会遇到诸如牙齿咬合不正、矫治器和附件的存在以及粘合剂残留等因素,这些因素会影响测量的牙齿表面的光滑度。这些局部因素可能导致QLF测试期间测试结果的准确性降低。相比之下,激光荧光更适用于正畸治疗中釉质脱矿的定量评估。除了上述方法之外,还可以使用微量测试、x射线衍射、拉曼光谱、透射电子显微镜、原子力显微镜和其他检测方法从微观角度探索珐琅晶体的形态和结构。随着同步辐射显微技术和光学相干断层扫描等数字成像检测方法的迅速发展,未来的正畸医生可以更好地发现和预防早期牙釉质脱矿这一并发症。
2019-12-08
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