2.3显微硬度/纳米硬度测试
当釉质发生脱矿时,无机成分大量溶解,导致釉质结构受损,脱矿区硬度明显降低。显微硬度是间接量化脱矿程度的常用指标。检测显微硬度时,可根据检测范围选择不同形状的压头。努普显微硬度压痕仪类似于细长菱形,主要用于连续检测牙釉质表面到深度的硬度变化,最小检测间隔为10-25 m。许多研究使用这种方法评估托槽周围从表面到内部釉质脱矿的严重程度。其优点在于,与传统的脱矿深度的组织学检测相比,硬度变化对脱矿前沿,尤其是透明区,在矿物损失方面比组织切片更敏感。然而,相邻压痕之间的距离太近将导致压痕重叠,这将影响测量精度。因此,它不能用作评价矿物质连续变化的检测方法。纳米压痕技术主要通过三角锥压头测量加载和卸载过程中载荷(压力)和深度(压力位移)之间的关系,从而获得样品的硬度和弹性模量等力学性能参数。
纳米压痕测试要求材料的表面必须非常平坦。精确的测量系统可以获得纳米级的微结构数据。两个压痕点之间的距离可达10 m,测量精度高于传统显微硬度计。提高了早期釉质脱矿检测的特异性和敏感性。在釉质脱矿过程中,晶体溶解,孔隙增加,分子间作用力减弱,对压力变形的表观和微观阻力降低,硬度和弹性模量也降低。Iijima等人比较了四种用于在离体前磨牙上粘结托槽的正畸粘合剂,在脱矿和再矿化液循环28天后横切牙冠,并测量了从表面到横截面聚合托槽边缘不同深度(1 ~ 96微米)100m处的釉质纳米硬度。结果发现,超级键/F3和富士邻位液晶组的釉质硬度降低低于转键和超级键组,这间接反映了含氟粘结剂的存在
2.4扫描电子显微镜
扫描电子显微镜是一种用于观察样品超微结构的电子光学仪器。扫描电镜观察所需的样品制作简单,需要在真空中喷涂金或碳。扫描电镜获得的数字图像分辨率高,可以发现早期釉质龋釉质柱状结构的脱矿结构变化。以前的研究认为,当釉质晶体脱矿时,釉质柱和Tomes细胞突起的晶核首先溶解,而釉质柱的间质稍有参与。然而,最近的研究发现,不仅早期釉质龋中出现晶核溶解,而且釉质鞘也明显溶解,柱间间隙明显增大。这种溶解方法形成的深孔与釉质深部晶体的矿物流失有关,扫描电镜下釉质表面呈鳞片状。该方法也可用于体外观察和研究不同粘接剂或再矿化剂对牙釉质脱矿的影响。同时,扫描电子显微镜可与能量色散X射线光谱仪(EDXS)结合,激发釉质晶体中的不同原子,通过X射线产生能级跃迁,形成空穴电子对,发射不同强度的电流脉冲,从而检测脱矿釉质表面几平方毫米微区内各元素的质量百分含量,溶解脱矿釉质晶体钙和磷,检测钙/磷摩尔比的降低。与传统的脱矿深度测量方法相比,结合元素含量的三维形态学分析方法能够更好地揭示釉质脱矿的微观形态机制。
2.5光学相干层析成像(OCT)
光学相干断层成像(OCT)是一种无创、非接触的数字光学成像技术,分辨率为10m,可以获得组织内部的断层结构。光学相干断层扫描已广泛应用于眼科成像、皮肤病学等功能成像领域,并已成为国内外无损数字检测领域的研究热点。基于低相干光干涉测量方法,利用近红外光源照射待测组织,根据光学相干干涉检测不同深度的组织信息。OCT将采集的信息转换成数字信号,由计算机处理,然后以图形或数字形式显示,以提供定量诊断指标。釉质脱矿深度的传统实验室测试方法通常需要制备样本釉质切片。样品制备要求严格,难度大,时间成本高。近年来,一些学者用光学相干断层扫描代替破坏性检测方法来检测早期窝沟龋和正畸釉质脱矿。皮顿等人用这种方法检测到,含有CPP~ACP的防护漆对托槽周围釉质脱矿有一定的预防作用。光学层析成像可以更快、更准确地获得脱矿深度的光学图像。Nee等人用偏振敏感光学相干断层扫描比较了几种常见正畸粘接剂对托槽周围脱矿的影响。不同组获得的结果高度相关。目前OCT也开始出现在体内脱矿的研究中,但相关的研究还很少,测量精度需要更多的研究和评价。随着未来光学无损检测技术的发展,相信光学相干层析技术也将更多地应用于体内研究。
3.正畸釉质脱矿的临床检测方法
早期釉质脱矿是指釉质表面及其以下的脱矿,并逐渐向深层发展。临床目测和探索性检查中早期龋的漏诊率很高,不能满足正畸学对釉质脱矿的要求,尤其是对光滑表面早期脱矿的要求。临床上肉眼可见的白斑是釉质脱矿的早期病变。白斑检出率一直是研究者统计固定正畸脱矿发生率的常用定性评价方法。然而,近年来定量分析方法的发展提高了体内釉质脱矿检测的准确性。
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